JCTN رفع درجة التركيز وتقليل محتوى الثمالة، فاصل مغناطيسي دائم للأسطوانة
JCTN رفع درجة التركيز وتقليل محتوى الثمالة، فاصل مغناطيسي دائم للأسطوانة تم تطويره من قبل شركتنا.إنها تعتمد زاوية التفاف كبيرة تبلغ 240 درجة ~ 270 درجة، وهيكل نبض مغناطيسي متعدد الأقطاب مدمجًا مع مياه الشطف متعددة القنوات، وجهاز التنظيف العلوي وشكل الخزان الجديد، ويمكن أن يزيد درجة التركيز بنسبة 2 ~ 10٪ مقارنةً بالتقليدي. الفواصل المغناطيسية دون تقليل معدل الاسترداد، وبالتالي حل مشكلة صعوبة تحسين درجات التركيز الناتجة عن التكتل المغناطيسي للشوائب في الفواصل المغناطيسية التقليدية.
تقدم المنتج بطلب للحصول على براءات اختراع محلية وبراءات اختراع دولية، واجتاز تقييم المنتج الإقليمي والوزاري في 30 مايو 2015، وهو الأول في الداخل والخارج والمستوى الرائد الدولي.
طلب
هذا المنتج عبارة عن فاصل مغناطيسي رطب مصمم لشطف وتنقية الخام المغناطيسي.وفقًا لمتطلبات العملية، يتم غسل الخام المغناطيسي واختياره وتنقيته وإزالة الطين منه وتركيزه.ينطبق على: فرز وإزالة الأوساخ من المنتجات الفائضة المتدرجة بعد الطحن الأولي؛تركيز المعادن قبل الطحن والترشيح الثانوي؛إزالة المغنتيت قبل الدخول إلى غربال ناعم وإزالة الطين قبل التعويم العكسي؛هذا هو الاختيار النهائي من المغنتيت.
مبدأ عمل JCTN:
بعد أن يتم تغذية ملاط الخام إلى جهاز التغذية الأنبوبي 1، يتم تغذيته مباشرة إلى منطقة فرز المعدات من خلال القماش ذو الفجوة.يتم أولاً ممغنطة المعادن المغناطيسية الموجودة فيها وتقييدها وطبقاتها، ثم يتم امتصاصها مباشرة على سطح الأسطوانة 3 بواسطة القوة المغناطيسية عالية الكفاءة، ويتم إخراج التركيز المغناطيسي من سطح السائل بواسطة الأسطوانة المضادة للدوران 3 ، ويتم نقل التركيز المغناطيسي إلى أعلى.يمكن تحقيق فصل الماء والخام أثناء عملية النقل، ويمكن زيادة التركيز.في الوقت نفسه، بعد فصل التركيز عن سطح السائل، فإنه يتأثر بالمجال المغناطيسي المتحرك المدمج على سطح الأسطوانة 3 لتحقيق الحركة الميكانيكية للتكتل المتكرر والتشتت والتكتل لجزيئات الخام.، وتحت شطف ماء الشطف متعدد المراحل 2، يمكن إزالة الشوائب مثل السيليكون والكبريت والفوسفور والركام الضعيف في التركيز بشكل فعال، بحيث يمكن تحسين درجة التركيز قدر الإمكان.أخيرًا، الكاشطة ذات الطبقة المزدوجة (جهاز التفريغ 4 والمكشطة 5)، يتم إثراؤها في صندوق التركيز 6 لتصبح مركزة؛وتدخل المعادن غير المغناطيسية والكائنات الحية المرتبطة بها، مع تدفق الخام، إلى مخرج المخلفات 7 في الجزء السفلي من خزان الفرز لتصبح مخلفات أو مخلفات متوسطة.
نقاط ابتكار براءات الاختراع الخاصة بالفاصل المغناطيسي JCTN:
◆ نقطة الابتكار الأولى: جهاز ماء الشطف متعدد المراحل
تم تجهيز جسم الخزان بأجهزة شطف متعددة القنوات، والتي تستخدم فوهات من الفولاذ المقاوم للصدأ مرتبة خصيصًا لشطف المعادن الموجودة على سطح الأسطوانة بالكامل، بحيث يمكن إزالة الشوائب مثل السيليكون والكبريت والفوسفور والركام الضعيف الموجود في المركز بشكل فعال. حلق، لتحسين درجة التركيز قدر الإمكان.
◆ نقطة الابتكار الثانية: هيكل شطف الستارة العلوية
تم تجهيز الجزء العلوي من الخزان بهيكل شطف ستارة مائية، والذي يمكن أن يجلب بشكل فعال السيليكون والكبريت والفوسفور والشوائب الأخرى إلى التكتل المغناطيسي المفتوح تحت تأثير جهاز ماء الشطف متعدد المراحل وجهاز التقليب المغناطيسي والركام الضعيف. إلى المخلفات، ويمكن أن يقلل من الشوائب في التركيز.
◆ نقطة الابتكار الثالثة: هيكل نظام مغناطيسي متعدد الأقطاب ذو زاوية التفاف كبيرة
يمكن لهيكل النظام المغناطيسي بزاوية التفاف كبيرة تبلغ 240 درجة ~ 270 درجة وأقطاب مغناطيسية متعددة أن تجعل المعادن تتدحرج على سطح الأسطوانة عدة مرات، وتزيل بشكل فعال السيليكون والكبريت والفوسفور وما إلى ذلك الممزوجة بالمعادن، وبالتالي تحسين درجة التركيز.
◆ نقطة الابتكار الرابعة: تكنولوجيا الدائرة المغناطيسية النبض المغناطيسي
يوجد جهاز تحريك مغناطيسي داخل جلد الأسطوانة، بحيث يمكن تحريك المعادن المرتبطة بسطح الأسطوانة مغناطيسيًا بشكل فعال، جنبًا إلى جنب مع النظام المغناطيسي متعدد الأقطاب لتوليد مجال مغناطيسي نابض، بحيث يتم تكتل المعادن بشكل متكرر وتفريقها وشطفها بماء الشطف، يمكنها إزالة المواد الضارة بشكل فعال مثل السيليكون والكبريت والفوسفور والركام الضعيف في التركيز، وبالتالي تحسين درجة التركيز.
◆ نقطة الابتكار الخامسة: تحمل الحماية
الجانب الخارجي للغطاء الطرفي من الألومنيوم يستخدم أخدودًا واسعًا وتصميمًا هيكليًا مع حجرة مخفية بالداخل، مما يمنع الملاط من الإنتاج من اختراق السطح المشترك للقطعة الطرفية للعمود ويقوي ختم المعدات.يعتمد طرف عمود الأسطوانة طريقة ختم مركبة من الختم الميكانيكي المتاهة متعدد الأخدود وحلقة ختم الشفة، مما يمنع الشوائب من دخول طرف العمود وإتلاف المحمل.ويوجد غلاف عمود في الطرف غير المحرك، والذي يمكن أن يمنع بشكل فعال تلف العمود عند تلف المحمل.
◆ نقطة الابتكار السادسة: جهاز تفريغ الخام اللامائي
اعتماد مكشطة مزدوجة لتفريغ المعدن من أجل إثراء التركيز وتحسين كثافة التركيز. الكاشطة مصنوعة من مادة مقاومة للتآكل، والتي يمكن أن تطيل عمر الخدمة.
◆ نقطة الابتكار السابعة: نظام تنظيف الفلتر المزدوج
يتحكم نظام الغسيل في 8 أنابيب راتينج بواسطة صمام التحكم. يحتوي الأنبوب الرئيسي على مرشح الأنبوب وفلتر الأنبوب المزدوج على شكل حرف Y، والذي يمكن أن يحافظ على الفوهة من البقع للتشغيل لفترة طويلة.
◆ نقطة الابتكار الثامنة: جهاز التغذية
جهاز التغذية عبارة عن صندوق تغذية أنبوبي، متصل بواسطة فلنجة، والتي يتم توصيلها بواسطة 2-4 فلنجات، من خلال مادة التوزيع من نوع الفجوة وجهاز الفائض.لتحقيق الغرض من توزيع المواد بالتساوي.يضمن الأنبوب الفولاذي بسمك 30 مم في الأسفل الاستخدام طويل الأمد دون أن يتآكل.
◆ نقطة الابتكار التاسعة: النقل
تم تجهيز الفاصل المغناطيسي JCTN بجهاز التحكم في تنظيم سرعة تحويل التردد، والذي يمكنه ضبط سرعة المعدة وفقًا لخصائص الخام الموجود في الموقع، وذلك لتحقيق مؤشر معالجة المعادن المقابل.
◆ نقطة الابتكار العاشرة: صندوق عالي التركيز
يعتمد صندوق التركيز على هيكل مرتفع، والذي يمكن أن يمنع الملاط بشكل فعال من الرش، ويتم لصق لوح سيراميك مقاوم للتآكل في المكان الذي يسهل ارتداؤه لزيادة عمر خدمة صندوق التركيز.
المؤشرات الفنية الاساسية
| نموذج | أبعاد الطبل (D×L)(مم) | الحد الأقصىالحث المغناطيسيشدة الطبل سطح (طن متري) | سعة(ذ) | قوة(كيلوواط) | ضوضاءديسيبل (أ) | وزن(كلغ) |
| JCTN1024 | 1050X2400 |
وفق المعدنية (100-600) | 25-50 | 11 |
≥ 75 | 5250 |
| JCTN1030 | 1050X3000 | 30-60 | 11 | 6700 | ||
| JCTN1224 | 1200X2400 | 40-70 | 15 | 7200 | ||
| JCTN1230 | 1200X3000 | 50-80 | 15 | 10000 | ||
| JCTN1236 | 1200X3600 | 60-90 | 22 | 14000 | ||
| JCTN1240 | 1200X4000 | 75-110 | 22 | 16000 | ||
| JCTN1245 | 1200X4500 | 85-120 | 22 | 19000 | ||
| JCTN1530 | 1500X3000 | 70-100 | 22 | 19500 | ||
| JCTN1540 | 1500X4000 | 90-130 | 30 | |||
| JCTN1545 | 1500X4500 | 100-150 | 30 | 22000 | ||
| JCTN1550 | 1500X5000 | 120-160 | 30 | 24500 |
ملاحظة: يرجى تقديم عينات من الخام لاختيار المعدات، وذلك لتحديد أفضل معلمات الفصل من خلال تجارب الفصل المغناطيسي.
ست ثورات جديدة في ابتكار عملية الإثراء
الفاصل المغناطيسي JCTN عبارة عن هيكل نظام مغناطيسي بزاوية التفاف كبيرة وأقطاب مغناطيسية متعددة.إلى جانب جهاز التحريك المغناطيسي، وجهاز مياه الشطف، وجهاز النقل المجهز بتنظيم سرعة تحويل التردد، تم تحسين إمكانية التحكم في الفاصل المغناطيسي JCTN، وفقًا لخصائص الخام المحددة، وضبط معلمات التشغيل للمعدات لتلبية متطلبات العمليات المختلفة. مواقف لمؤشرات معالجة المعادن.في عملية الإثراء، يمكن تحقيق ما يلي:
1) الحصول على المركز المؤهل مقدمًا بعد المرحلة الأولى من الطحن، وذلك لتحقيق "الحصول عليه مبكرًا"؛2) زيادة معدل الخردة قبل الطحن، وتحقيق "رميها مبكرًا"؛
3) تحل العملية المغناطيسية بالكامل محل عملية التعويم العكسي لتحقيق "الحصول على المزيد"؛4) يحل الفاصل المغناطيسي JCTN المفرد محل الفواصل المغناطيسية التقليدية المتعددة؛
5) استبدال معدات الاختيار التقليدية؛
6) التطبيق في خام الحديد فائق النعومة.
حالة استخدام
قضية 1 : تطبيق JCTN الفصل المغناطيسيأو في بينكسي دونغفانغسانجيازي التعدين صناعة
يتم تغذية المرحلة الأولى من الفاصل المغناطيسي JCTN1245 عن طريق الفائض في المرحلة الأولى من الإعصار، ونعومة الطحن هي -200 شبكة، وهو ما يمثل 80٪.تظهر بيانات الاستخدام الميداني لمرحلة واحدة من الفاصل المغناطيسي JCTN1245 في الجدول 1.
| منتج | درجة TFe /٪ | أَثْمَر /٪ | استرداد TFe /٪ | MFe/% |
| يركز | 48.45 | 46.28 | 81.54 |
|
| مخلفات | 9.45 | 53.72 | 19.01 |
0.30 |
| التغذية | 27.50 | 100.00 | 100.00 |
|
الجدول بالحجم الكامل: البيانات الميدانية للفاصل المغناطيسي JCTN1245
يمكن أن نرى من الجدول أعلاه أن المرحلة الأولى تعتمد الفاصل المغناطيسي JCTN1245، والنقاء هو -200 شبكة، وهو ما يمثل 80٪.تمت زيادة درجة الخام الخام من 27.50% إلى درجة التركيز 48.45%، وكانت مخلفات الحديد المغناطيسي 0.30%، وكانت مخلفات الحديد المغناطيسي أقل من 1.00% استجابة لمتطلبات العملاء.
يتم استخدام إجمالي 10 مجموعات من الفواصل المغناطيسية JCTN1245 لعمليات الفرز في المرحلة الأولى من الموقع.لا يؤدي فصل هذه المعدات إلى تحسين درجة التركيز فحسب، بل يتخلص أيضًا من معظم المخلفات، ويقلل كمية الطحن في المرحلة الثانية، ويوفر استهلاك الطاقة، كما أن الاستخدام في الموقع جيد وقد نال الثناء من عملاء.
|
منتج |
TFe الصف /٪ | أَثْمَر /٪ | استرداد TFe /٪ |
MFe/% |
| يركز | 63.83 | 79.01 | 95.79 |
|
| مخلفات | 10.57 | 20.99 | 4.21 | 0.60 |
| التغذية | 52.65 | 100.00 | 100.00 |
|
الجدول 2: البيانات الميدانية للفاصل المغناطيسي JCTN1245 من المرحلة الثانية
يمكن أن نرى من الجدول أعلاه أن المرحلة الثانية تعتمد الفاصل المغناطيسي JCTN1245، والنقاء هو -400 شبكة، وهو ما يمثل 90٪، وتمت زيادة درجة الخام الخام من 52.65٪ إلى درجة التركيز 63.83٪، وتم زيادة مخلفات الحديد المغناطيسي. 0.60%.وكانت مخلفات الحديد المغناطيسي أقل من 1.00% استجابة لمتطلبات العملاء.
تم استخدام إجمالي 10 فواصل مغناطيسية JCTN1245 في المرحلة الثانية من الموقع لعمليات الفصل.من خلال فصل هذه المعدات، تتراوح درجة تركيز الخام المطلوبة من قبل العميل بين 61.00% و65.00%، والحديد المغناطيسي للمخلفات أقل من 1.00%.بمقارنة استخدام الفواصل المتسلسلة، يمكن لمصفاة واحدة وفاصل مغناطيسي لإزالة الخبث أن يحل محل فاصلين مغناطيسيين عاديين، مما يقلل من مساحة الأرضية وتكاليف التشغيل.
الحالة 2: تطبيق JCTN الفاصل المغناطيسي في Xigang بولون التعدين
خامات Hami Bolun Mining و Subei Bolun Mining كلها من المغنتيت الأساسي.تعتمد العملية الأصلية في الموقع على الطحن ثلاثي المراحل، وتصنيف الشاشة الدقيقة - إزالة الطين بثلاث مراحل - عملية الفصل المغناطيسي الضعيف بثلاث مراحل، وتصل درجة التركيز النهائية إلى أكثر من 63٪؛بعد اعتماد الفاصل المغناطيسي JCTN، فإنه يمكن أن يحل محل العملية الأصلية لخزان التجفيف المغناطيسي والفصل المغناطيسي الضعيف على التوالي.في مرحلة التخشين، في حالة ضمان درجة المخلفات، زيادة درجة التركيز بأكثر من 2 نقطة مئوية، وذلك لتقليل استهلاك الطاقة للطحن اللاحق، والتأكد من وصول درجة التركيز النهائية إلى أكثر من 63٪ .
يوجد 16 فاصل مغناطيسي JCTN1230 في مصنعي المعالجة التابعين لشركة Hami Bolun Mining Co., Ltd.، وكل مصنع معالجة يستخدم 8 فاصلات مغناطيسية JCTN1230 لعمليات الإثراء في الموقع. إن تأثير الإثراء جيد، وقد تم الاعتراف به من قبل العملاء.
تمتلك شركة Subei Bolun Mining Co., Ltd. 7 مجموعات من الفواصل المغناطيسية JCTN1230 لعمليات الإثراء.تأثير الإثراء جيد، وقد تم الاعتراف به من قبل العملاء.
الحالة 3: التطبيق in فائقة الجودة خام الحديد
ينتمي التعدين في شركة SINO في أستراليا إلى أكسيد الحديد الأسود المفرد، ويعتمد عملية طحن على مرحلتين وعملية فصل مغناطيسي على ثلاث مراحل.بعد الطحن على مرحلتين، يبلغ حجم جسيمات المعادن حوالي 90% من -500 شبكة، استخدم الفاصل المغناطيسي JCTN1230 لاستبدال الفاصلين المغناطيسيين CTB1230 في العملية الأصلية لعملية الاختيار.وتظهر عملية إثراء في الشكل.
تظهر مؤشرات إثراءها في الجدول:
|
| ينتج | درجة TFe /٪ | أَثْمَر /٪ |
استرداد TFe | ملاحظات | ||
|
JCTN1230 مغناطيسي منفصل | يركز | 67.03 | 84.5 | 93.42 |
أثناء الاختبار الفترة، متوسط القيمة تم التحقيق فيه عدة مرات. | ||
| مخلفات | 25.80 | 15.47 | 6.58 | ||||
| التغذية | 60.65 | 100.00 | 100.00 | ||||
|
تطبيق اثنان CTB1230 مغناطيسي | يركز | 66.05 | 98.13 | 99.25 | |||
| مخلفات | 26.53 | 1.87 | 0.75 | ||||
| التغذية | 65.31 | 100.00 | 100.00 | ||||
| يركز | 65.31 | 88.51 | 95.31 | ||||
| مخلفات | 24.75 | 11.49 | 4.69 | ||||
| التغذية | 60.65 | 100.00 | 100.00 |
وفقًا للبيانات، في SINO Mining، يحل الفاصل المغناطيسي JCTN الفردي محل الفاصلين المغناطيسيين CTB1230 في العملية الأصلية، ولا يزال بإمكانه الحصول على منتجات مؤهلة بدرجة أعلى من التركيز الأصلي، مما يوضح مزايا الفاصل المغناطيسي JCTN في العملية الأصلية. تطبيق خام الحديد بدرجة مسحوق فائقة النعومة.
